等离子体uv光解废气除臭处理原理探讨

等离子体uv光解废气除臭处理原理探讨

 

uv光解除臭设备的适用范围:

 

炼油厂、橡胶厂、化工厂、制药厂、污水处理厂和垃圾中转站恶臭气体和工业废气的净化。

 

uv光解除臭设备的技术原理；

 

1.uv光解除臭设备利用***殊的高能、高臭氧紫外光束照射废气，裂解工业废气如氨、三甲胺、硫化氢、甲基硫、甲硫醇、甲基硫、二甲基二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC、苯、甲苯和二甲苯，使有机或无机高分子恶臭化合物的分子链在高能紫外光束照射下降解转化为低分子化合物。

 

2.利用高能、高臭氧的UV光束分解空气中的氧分子，产生游离氧，即活性氧，由于游离氧携带的正负电子不平衡，需要与氧分子结合，进而产生臭氧。

 

Uv+O2 → o-+o *(活性氧)O+O2→O3(臭氧)

 

众所周知，臭氧对有机物有很强的氧化作用，对去除工业废气等刺激性气味有立竿见影的效果。

 

3.工业废气由排气设备输入净化设备后，净化设备利用高能紫外光束和臭氧对工业废气进行协同分解和氧化反应，使工业废气物质降解转化为低分子化合物、水和二氧化碳，然后通过排气管排放到室外。

 

4.用高能紫外光束裂解工业废气中细菌的分子键，破坏细菌的核酸(DNA)，然后用臭氧进行氧化反应，完全达到净化杀菌的目的。